經(jīng)營范圍
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光學(xué)鍍膜-激光膜
薄膜特性：T＞99.9%@1030-1090nm。 損傷閾值：＞50KW/cm2 或 ＞25J/cm2等
光學(xué)鍍膜-超低反射薄膜
薄膜特性：R<0.1%@420-700nm。 適用襯底：K9等各種玻璃、各種PC等。
光學(xué)鍍膜-CO2激光器高反膜
薄膜特性：R＞99.5%@10600nm。 損傷閾值：＞6KW/cm2 @10600nm。
光學(xué)薄膜-激光膜
薄膜特性：垂直入射，R >99.85% @351nm，R > 99.90% @527nm，R > 99.90% @1053nm 損傷閾值：> 12J/cm2 @351nm，3ns等
零部件及耗材-射頻離子源
射頻離子源，又稱RF源，是離子束輔助鍍膜的最理想方式；我司自行研發(fā)的射頻離子源，已被萬華和舜宇等公司驗證和應(yīng)用。
零部件及耗材-設(shè)備改造
Gener鍍膜機，是光馳最經(jīng)濟實惠的經(jīng)典機型之一。我司可以將其加裝射頻離子源，使其發(fā)揮出類似OTFG的作用，煥發(fā)第二春。
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