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晶振，是當(dāng)前最普遍的膜厚監(jiān)控方式。晶振探頭，是最直接感受和影響膜厚控制精度的部件。我司通過(guò)理論分析和實(shí)踐驗(yàn)證，找到了提升和改善膜厚控制精度的方式，將傳統(tǒng)晶振膜厚控制精度提升10%以上。已被多家公司驗(yàn)證并采用。
傳統(tǒng)晶振鍍膜后經(jīng)常出現(xiàn)月牙現(xiàn)象。這出現(xiàn)在幾乎所有的鍍膜設(shè)備中，無(wú)論進(jìn)口或國(guó)產(chǎn)設(shè)備。月牙面積的無(wú)規(guī)律性會(huì)降低膜厚控制精度，破壞鍍膜的穩(wěn)定性和重復(fù)性。
如果做近似處理，晶振片頻率變化Δf與膜厚度變化Δd之間有：Δf=-N S ?d。其中，N是個(gè)常數(shù)。S為晶振片上的鍍膜面積。因此薄膜沉積面積S會(huì)影響鍍膜Tooling！
AF防水藥，獨(dú)家配方。鍍膜后不起霧不起油，具有防指紋、加硬和耐摩擦等效果。廣泛應(yīng)用于車載鏡頭和手機(jī)攝像頭等，已經(jīng)過(guò)業(yè)內(nèi)多家知名公司認(rèn)可?？芍笇?dǎo)鍍膜工藝。
SiO2，最常用的膜料之一。我司升級(jí)獨(dú)家配方，具有低應(yīng)力、低羥基含量和高純度的物理特性。有石英環(huán)和顆粒兩種表現(xiàn)形式。對(duì)于抑制薄膜點(diǎn)子具有明顯效果。已被萬(wàn)華等公司驗(yàn)證和采用。
| 我司膜料鍍膜后的外觀等級(jí)有明顯改善。實(shí)驗(yàn)條件：在同一臺(tái)潔凈后的鍍膜機(jī)上，于同一位置放置BK7基板，連續(xù)2爐鍍同一膜系，膜厚約3微米，鍍膜后對(duì)比鏡片外觀 。 | |
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| 傳統(tǒng)SiO2鍍膜外觀40-20 | 我司SiO2鍍膜外觀20-10 |
| 我司膜料鍍膜后機(jī)器側(cè)壁更加干凈，膜料崩掉的情況有明顯改善。實(shí)驗(yàn)條件：在同一臺(tái)潔凈后的鍍膜機(jī)，側(cè)壁更換新鋁箔紙后，連續(xù)鍍膜3天，觀察對(duì)比側(cè)壁外觀情況 。 | |
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| 傳統(tǒng)SiO2鍍膜后側(cè)壁 | 我司SiO2鍍膜后側(cè)壁 |
我司可以將其加裝射頻離子源，使其發(fā)揮出類似OTFG的作用，煥發(fā)第二春。
射頻離子源，又稱RF源，是離子束輔助鍍膜的最理想方式，改善和提升電子束蒸發(fā)鍍膜品質(zhì)的最有效方式。是車載鏡頭鍍膜、手機(jī)鏡頭鍍膜和高閾值薄膜指標(biāo)最重要的配置之一。
我司開(kāi)發(fā)的射頻離子源，已被萬(wàn)華和舜宇等公司驗(yàn)證和應(yīng)用。
